1-Idroksisikloheksil fenil ketòn CAS 947-19-3 Fotoinisyatè 184
Fotoinisyatè 184 la se yon fotoinisyatè solid radikal lib (I) ki gen gwo efikasite ak rezistans kont jòn. Li gen avantaj tankou yon tan depo ki long, yon gwo efikasite inisyasyon, yon pakèt absòpsyon UV, elatriye. Li sitou itilize pou geri UV prepolimè ensature (tankou akrilat) ansanm ak monomè ak oligomè vinil monofonksyonèl oswa miltifonksyonèl, espesyalman pou kouch ak lank ki mande yon gwo degre jòn.
| Non pwodwi: | 1-Idroksisikloheksil fenil ketòn | Nimewo Lo | JL20220619 |
| Kas | 947-19-3 | Dat MF | 19 jen 2022 |
| Anbalaj | 20kgs/katon | Dat analiz la | 19 jen 2022 |
| Kantite | 1MT | Dat Ekspirasyon | 18 jen 2023 |
| ATIK | ESTANDA | REZILTA | |
| Aparans | Poud kristalin blan | Konfòme | |
| Pite | ≥99.00% | 99.90% | |
| Pwen fizyon | 46.0-50.0 ℃ | 47.3-48.3℃ | |
| Pèt sou siye | ≤0.20% | 0.11% | |
| Sann | ≤0.10% | 0.05% | |
| Transmisyon | 425nm≥98.0% 500nm≥98.0% | 99.5% 99.8% | |
| Koulè | ≤50Hazen | 25Hazen | |
1. Fotoinisyatè 184 la se yon fotoinisyatè tip I radikal lib efikas ki pa vin jòn, ki itilize pou polimerizasyon UV monomè ak oligomè akrilat polimerize monofonksyonèl oswa miltifonksyonèl. Li lajman itilize nan vèni kopi, kouch plastik, kouch bwa, adezif, lank litografi, lank enprime ekran, lank fleksografik ak pwodwi elektwonik.
2. Geri UV nan kouch vèni Acrylic pou papye, bwa, metal ak sifas plastik
3. Kòm yon inisyatè efikas pou geri UV ak yon fotoinisyatè ki pa vin jòn
4. Kouch ak lank ki ka geri ak UV
Katon 20kgs oubyen selon egzijans kliyan an. Kenbe l lwen limyè nan yon tanperati ki anba 25℃.
Fotoinisyatè 184 CAS 947-19-3 1
(1-idwoksisikloheksil)fenil-Metanon; IHT-PI 184; 1-(1-Idroksi)sikloheksil-1-fenil ketòn; Fenil 1-idroksisikloheksil ketòn; Fenil(1-idroksisikloheksil)metanon; 1-Idroksisikloheksifenil ketòn; 1-Idroksisikloheksil; OMNIRAD 481; 1-(2-{[2-(1-idroksisikloheksil)fenil]karbonil}fenil)sikloheksan-1-òl; Ciba IRGACURE 184 1-Idroksi-sikloheksil-fenil-ketòn; Irgacure 184; bis[2-(1-idroksisikloheksil)fenil]Metanon; OMNIRAD 184(ansyen IRGACURE 184); HRcure-184; alfa-idroksisikloheksilfenilketòn; A-IDROKSICIKLOHEKSILFENILKETÒN; 1-IDROKSIKLOHEKSIL FENIL KETÒN; 1-IDROKSIKLO-1-SIKLOHEKSIL FENIL KETÒN; 1-idwoksisikloheksil ketònUV-184 (1-Idroksisikloheksil fenil ketòn); 1-IdroksisikloheksilFenilKetòn>; 1-Idroksisikloheksil-Fenil Fosfin oksid; 1-idwoksisikloheksil fenil metil ketòn; FOTOINITATÈ 184(UV184); Absòbe UV 184; a-Idroksisikloheksilfenilketòn CAS 947-19-3; Fotoinisyatè Sunitor 184; Fotoinisyatè UV 184; 1-Idroksisikloheksil feril ketòn; 1-Idroksisikloheksil Fenil Ketòn D5; 1-Idroksisikloheksil fenil ketòn(184); fotosansibilizatè 184; idroksisikloheksil fenil ketòn; Metanòn, (1-idwoksisikloheksil)fenil-; (1-idwoksisikloheksil)fenil-metano; Irgacure 184; HCPK; fotoinisyatè 184; PHOTOCURE 184; Fotoinisyatè 184; Omnirad 184
